苏州亿拓无掩膜光刻机特点：

●灰度光刻( Grayscale Lithography)

多台阶功能：通过SLM-DMD（Digital Mirror Device）输入具有灰阶结构的图形，调制光斑，一次曝光，可产生多重台阶，光斑尺寸从20um可调至256um，灰度光刻的物理分辨率可达2um。从2台阶到8台阶，台阶深度均可通过灰度调制光斑实现，显著提升了微结构图形制造效率。尤其适合制作MEMS、二元光学等多台阶器件。

从点线扫描到并行直写，借助SLM-DMD，在光刻过程中动态改变光斑至任意形状，并且对光斑内的不同区域进行光强调制，由此带来独有的高效率和高灵活性。尤其适用于厚胶变深度刻蚀、复杂图形高效率光刻。从灰阶到连续表面原理

●CCD动态聚焦（Dynamic Focusing）

精密的自动聚焦光路设计结合智能化的图像处理，实现了聚焦光斑在Z轴方向的精确定位。消除光刻胶涂布厚度和基板不均匀性对图形光刻精度的影响，为三维非球面加工和检测提供有力支持。

独有超长范围动态聚焦能力，0~40mm全程范围内，动态跟随误差<0.3um，跟随速度>2mm/s。

●光变图形处理软件OVGrphics 

支持*.tiff、bmp文件与arr格式(自定义)转换；支持矢量arr文件格式处理；

支持三维图像的分幅处理、多分辨率图像的光刻文件处理和拼接； 

支持二元光学元件设计的迭代付里叶变换和光束整形处理、支持DMD并行高分辨率图形转换模块、支持利用光变图像的存储处理，支持4G信息量图形产生与处理。

●点阵与矢量化控制软件 

支持矢量化、点阵运行模式切换；

文件格式*.DXF，*.GSD-II，*.CIF，*.ARR；具有曝光时间设定与曝光器接口通讯；

支持DMD分区输入的并行光刻控制；支持分幅输入的三维图形的合成、二元光学元件位相结构的光刻。各种矢量化精密图形、点阵精密图形的混合光刻。

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